Üpjün ediji Senagat / Elektron derejeli TMAH 25% Tetrametilamonium Gidroksid

Gysga düşündiriş:

Önümiň ady: Tetrametilamonium gidroksidi

KESEL NOOK: 75-59-2

Daş görnüşi: reňksiz açyk suwuklyk

Derňew: 25.0%,

Gaplamak: 200kgs / deprek

Tetrametilamonium gidroksidi (TMAH ýa-da TMAOH) molekulýar formulasy bolan ((CH3) 4N] + [OH] - dördünji ammiak duzudyr we organiki dörtlük ammiak birleşmeleriniň synpynyň iň ýönekeý agzasydyr.Senagat taýdan ulanylyşynyň biri kremniniň anizotrop emele gelmegi üçin.Şeýle hem, fotolitografiýa prosesinde kislotaly fotorezistiň ösüşinde esasy çözüji hökmünde ulanylýar.Faza geçiriş katalizatory bolany üçin, fotorezisti ýok etmekde örän täsirli.Aglomerasiýanyň öňüni almak üçin ferrofliidiň sintezinde surfaktant hökmünde hem ulanylýar.

Gowy hil we çalt eltip bermek we özleşdirmek hyzmaty

Gyzgyn telefon liniýasy: + 86-15255616228 (WhatsApp & Wechat)

Email: daisy@shxlchem.com

Bize e-poçta iberiň

Önümiň jikme-jigi

Haryt bellikleri

Düşündiriş

Tetrametilamonium gidroksidi(TMAH ýa-da TMAOH) molekulýar formula bilen dörtlük ammiak duzudyr ((CH)₃)₄N]⁺[OH]^-we organiki dörtlük ammiak birleşmeleriniň synpynyň iň ýönekeý agzasydyr.Senagat taýdan ulanylyşynyň biri kremniniň anizotrop emele gelmegi üçin.Şeýle hem, fotolitografiýa prosesinde kislotaly fotorezistiň ösüşinde esasy çözüji hökmünde ulanylýar.Faza geçiriş katalizatory bolany üçin, fotorezisti ýok etmekde örän täsirli.Aglomerasiýanyň öňüni almak üçin ferrofliidiň sintezinde surfaktant hökmünde hem ulanylýar.

Spesifikasiýa:

Himiki ady	Tetrametilamonium gidroksid çözgüdi
Başga at	TMAH
CAS #	75-59-2
Arassalyk	25% min
Molekulýar formula	(CH3) 4NOH
Molekulýar agram	91.15
Himiki aýratynlyklary	Açyk sary suwuk reňksiz. Kömürturşy gazyny siňdirmek aňsat, aşgar, güýçli poslaýjy.
Arza	1. Organiki sintetiki himiýada faza geçirmek katalizatorlary. 2. Elektron senagaty üçin anizotrop poslama ergin, silikon kauçuk we beýleki silikon önümleriniň polimerizasiýasy üçin katalizator
Gaplamak	1KG, 25KG, 200kg, 1000KG IBC, ISO TANK

Tehniki maglumatlar sahypasy / TDS:

Aýratynlyklary	Haryt	Bölüm	MIN	MAX
	Derňew	%	24.90	25.10
	Reňk	Hazen		5
	CO₃^2-(Karbonat)	ppm		100
	Cl^-(Hlorid)	ppm		0.1
	CH₃OH (Metanol)	ppm		40
	Li (Lityum)	sah		5
	Na (Natriý)	sah		10
	Mg (Magniý)	sah		5
	Al (Alýumin)	sah		10
	K (Kaliý)	sah		10
	Ca (Kalsiý)	sah		10
	Cr (Hrom)	sah		5
	Mn (marganes)	sah		5
	Fe (demir)	sah		5
	Ni (Nikel)	sah		5
	Co (Kobalt)	sah		5
	Cu (mis)	sah		5
	Zn (Sink)	sah		5
	Mo (Molibden)	sah		5
	Cd (Kadmium)	sah		5
	Pb (Gurşun)	sah		5
	Ag (Kümüş)	sah		5
	Bölejik> = 0,5um	Ea / ml		100

Fiziki aýratynlyklar *	Forma	Suwuk
	Gaýnadyş nokady, ° C.	100.0
	Doňdurma nokady, ° C.	<-25.0
	Iscapyşmazlyk @ 25 ° C	2.8
	Aýratyn agyrlyk güýji @ 60 ° F.	1.022
	Çyra nokady (Penski Martens), ° F.	> 200
	pH	> 13

Iberiş maglumatlary	Konteýnerler
	200L arassa deprek
	Isleg boýunça beýleki gaplar.
	Eltip bermek klassifikasiýasy
	Dogry iberiş ady: tetrametilamonium gidroksidi
	Howplaryň klassifikasiýasy: 8
	Şahsyýet belgisi: UN1835, PGII

Howpsuzlyk we işlemek	Aýratyn howpsuzlyk we işlemek üçin maglumat üçin serediň
	Talap boýunça elýeterli material howpsuzlygy maglumatlary sahypasy.

Bellikler *

Tetrametilamonium gidroksidi (2.380%, 20.0%, elektron derejesi), TMAH (25%, 98%, önümçilik derejesi) hem bar, jikme-jiklikler üçin biziň bilen habarlaşmagyňyzy haýyş edýäris.

Arza

1) Derňew nukdaýnazaryndan tetrametilamonium gidroksidi polarografiki reagent hökmünde ulanylyp bilner.

2) Önümi arassalamak nukdaýnazaryndan, käbir metal elementleri çökdürmek üçin kül erkin aşgar hökmünde ulanyldy.

3) elektron pudagynda, esasanam oňyn garşydaş dörediji, kremniý wafli çygly we CMP prosesi üçin gaty arassa çözgüt.

4) integral zynjyrlar, suwuk kristal displeýler, çap edilen platalar, kondensatorlar, datçikler we beýleki köp sanly elektron komponentleri öndürilende.